日本富士Fujifilm單光束紅外氣體分析儀氣壓干擾補償(選配)根據內置標準功能輸出信號保持,手動/自動量程切換選配功能自動校正,自動校正遠程啟動,遠程輸出保持,量程識別接點輸出,上下限警報輸出,O2換算值輸出,O2換算平均值輸出,平均值復位接點輸出,CO濃度峰值警報接(jie)點輸出
日本富士Fujifilm單光束紅外氣體分析儀
產品描述:
本產品能(neng)針對大(da)氣環境監測(CO)或空氣分離設備的不純(chun)物低濃度(du)氣體(CO,CO2)的濃度(du),
進行連(lian)續測量的單光束(shu)紅外氣體分析儀。 采(cai)用取樣切換方(fang)式可連(lian)續測量低濃度(0~5ppm)氣體。
高(gao)穩定性:零(ling)點漂移±0.5%FS/周。
安(an)裝于19英(ying)寸機柜,重量約為9kg,小巧輕盈。
能連續(xu)測量低濃度氣體。
內置磁氧分(fen)析儀(yi)或電(dian)化學氧分(fen)析儀(yi)(選配)。
內置(zhi)氣(qi)壓(ya)干(gan)擾補償、RS-485通信、自動校正、警報輸出(chu)、O2換算等多種功能(選配)。
測(ce)量部件結(jie)構簡單,保養容易。
日本富士Fujifilm單光束紅外氣體分析儀
般規格:
測量原理
NO,SO2,CO,CO2,CH4:非分(fen)散型紅外線吸收法(單(dan)光束)
O2:電化學(xue)(內(nei)置(zhi))或(huo)磁力式(內(nei)置(zhi))或(huo)氧化鋯式(弊公司ZFK7 外置(zhi))
測量成分及測量范圍
NO:0~10ppm···100ppm
SO2:0~10ppm···100ppm
CO2:0~5ppm···50ppm
CO:0~5ppm···50ppm
O2(內置(zhi)電化學(xue)式):0~10vol%···25vol%
O2(內置磁力式):0~5vol%···100vol%
O2(外(wai)置氧化鋯式):0~5vol%···25vol%
測量量程 1組分多2量程
重復性 ±0.5%FS以內
線(xian)性 ±1%FS以內
零點漂移(yi) ±0.5%FS/周
滿(man)量程漂(piao)移 ±2%FS/周
響應時間(90%以(yi)內) 30秒以(yi)內(氣體切換時間點不(bu)同,消耗時間會(hui)隨之變化(hua))
模(mo)擬(ni)輸出信號 DC4~20mA或DC0~1V
測(ce)量值(zhi)顯(xian)示 帶背景(jing)燈LCD(日語,英語或中文:根據)
各成(cheng)分的(de)瞬時值,O2換算(suan)瞬時值,O2換算(suan)平均值,O2平均值
量程切(qie)換(huan) 通過按鍵操作(zuo)可(ke)進(jin)行手(shou)動量程切(qie)換(huan)、自動量程切(qie)換(huan),外部(bu)接點輸入(ru)可(ke)進(jin)行遠程切(qie)換(huan)(選配(pei))。
外部接(jie)點輸入(選配(pei)) 電(dian)壓(ya)輸入接(jie)點(供壓(ya)DC12~24V,大電(dian)流15mA)
遠程量程切換,自動校正遠程啟動,遠程輸(shu)出保持,平均值復位(wei)
接點(dian)(dian)輸出(選配) 1c繼電器接點(dian)(dian)(接點(dian)(dian)容量 DC24V/1A 阻性(xing)負載)
儀表異常,校正(zheng)異常,量程(cheng)識別,自動校正(zheng)中,自動校正(zheng)用電磁閥驅動,
上下限報警(jing),CO濃度峰(feng)值報警(jing)
通信功能(選配) RS-485(Modbus)(9針(zhen)D-sub輸(shu)出) 半雙(shuang)工位串行,起止同步(bu)式(shi)
被測(ce)氣(qi)體流量監(jian)測(ce)器 有
氣體出入口尺寸 Rc1/4 或 NPT1/4內螺紋
吹掃氣體流(liu)量 1L/min(根據需要)
參(can)比氣體 需要(干燥N2或干燥Air)
周邊溫(wen)度(du)濕度(du) -20~60℃ 90%以下(無(wu)結露)
電源電壓 AC100V~240V 50/60Hz
額定功率(lv) 約100VA
外形尺寸 133(H)×483(W)×382(D)mm
重量 約10kg
適用 CE
被測氣體條(tiao)件 流(liu)量 1.0L / min ±0.2L / min
溫(wen)度 0 ~ 50℃
壓力 10kPa以下(xia)
粉塵 0.3μm以(yi)下的顆(ke)粒:100μg / Nm3以(yi)下
氣霧 無
水分 不能(neng)超過2℃飽和(he)(被測(ce)氣體(ti)、參比氣體(ti)相同)
腐蝕性成分 HCL 1ppm以下